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GD-MS/辉光放电质谱/GDMS

周 期
5个工作日内
设 备
塞默飞Thermo Fisher Element , Nu Astrum
测试价格
面议

服务描述

特点:

固体直接进样

无标样定量

全元素同时分析

测量范围宽,可由ppb级至基体含量

可出CNAS报告


GDMS测试原理

在辉光放电质谱的离子源中被测样品作为辉光等离子体光源的阴极,在阴极与阳极之间充入惰性气体(一般为氩气),并维持压力为10-1000 Pa。在电极两端加500-1500 V的高电压时,Ar电离成电子和Ar+,Ar+在电场的作用下加速移向阴极。阴极样品的原子在氩离子的撞击下,以5-15eV的能量从阴极样品上被剥离下来(阴极溅射),进入等到离子体,在等离子体中与等离子体中的电子或亚稳态的Ar原子碰撞(Penning)电离,变成正离子:M+e-→M++2 e-,M+Ar*一M++Ar+ e-

项目介绍

半导体材料分析、高纯金属分析、合金材料分析、粉末及非导体材料成分分析GD-MS具有不可替代的作用

样品要求

导体样品

片状:12-20mm*12-20mm*2-5mm ,表面平整光洁

针状: 2-3mm*2-3mm*22mm ;表面平整光洁

非导体样品

粉末: 均匀性好,不含水份

结果展示

案列:

1.可对超薄薄膜纯度进行分析

案例1:对100um碳化硅薄膜全元素分析


案例2:对60um碳化硅薄膜全元素分析

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